Plasma清洗機(jī)系列 · 在線式
OCP-850L 在線式等離子清洗機(jī)
在線式等離子表面處理,清洗、活化、刻蝕一體化。4清洗頭高效作業(yè),不改變基體性能,顯著提升粘接與貼合強(qiáng)度。
核心參數(shù)
清洗范圍
L200-1200mm
W200-550mm
清洗水滴角
20° - 50°
表面活化效果驗(yàn)證
設(shè)備功率
6.5kW
AC220V · 520kg
免費(fèi)打樣驗(yàn)證效果 13510932149 (微信同號)
產(chǎn)品特點(diǎn)
表層改性 · 不損基體
Plasma清洗改性僅發(fā)生在材料的表面層,不影響基體固有性能,處理均勻性好。
納米微蝕刻 · 提升附著力
借助等離子對物體表面進(jìn)行納米級的微蝕刻,降低表面光滑程度,大幅度提升附著力。
表面活化 · 增強(qiáng)粘接強(qiáng)度
利用等離子活化材料表面,激發(fā)親水性及活性,提高粘接貼合強(qiáng)度。
4清洗頭 · 高效作業(yè)
配備4個清洗頭,滿足產(chǎn)線清洗效率需求。
在線式 · 無縫連線
支持左進(jìn)右出、右進(jìn)左出、左進(jìn)左出、右進(jìn)右出四種進(jìn)板方式,滿足連線需求。
主要技術(shù)參數(shù)
| 工作模式 | 在線式,支持左進(jìn)右出/右進(jìn)左出/左進(jìn)左出/右進(jìn)右出 |
| 清洗水滴角 | 20° - 50° |
| 最高精度 | ±0.05mm |
| Y軸行程 | 650mm |
| 平臺重復(fù)精度 | ±0.05mm |
| Z軸行程 | 50mm |
| 綜合精度 | ±0.1mm |
| Y/Z單軸最高速度 | 500mm/s |
| 工業(yè)吸塵系統(tǒng) | 標(biāo)配 |
| 操作系統(tǒng) | SMIDA · 文件格式 DXF |
| 工作環(huán)境 | 溫度25℃±2℃;濕度≤60% |
型號規(guī)格
| 型號 | OCP-850L |
| 清洗范圍 | L200-1200mm · W200-550mm |
| 工作高度 | 900±30mm |
| 清洗頭 | 4個 |
| 電源 | AC220V |
| 功率 | 6.5kW |
| 外形尺寸 | L1460 × W1720 × H1830mm |
| 重量 | 520kg |
※ 清洗范圍 L>850mm 時需接駁臺輔助
應(yīng)用領(lǐng)域
芯片半導(dǎo)體封裝
芯片清洗與蝕刻關(guān)鍵步驟
企業(yè)介紹
思邁達(dá)成立于2010年,廠房面積10000m2;,員工170余人(研發(fā)團(tuán)隊(duì)30+),是國家高新技術(shù)企業(yè)、專精特新企業(yè)。17年來專注精密制造設(shè)備領(lǐng)域,累計服務(wù)2000+家企業(yè)與科研機(jī)構(gòu),產(chǎn)品覆蓋40余個國家和地區(qū)。
免費(fèi)打樣,驗(yàn)證清洗效果
寄送樣件,實(shí)際驗(yàn)證水滴角與附著力提升效果。
13510932149 (微信同號)