陶瓷漿料是結構陶瓷、電子陶瓷、功能涂層制備的基礎材料,粉體分散均勻性與氣泡控制直接影響成型與燒結質量。在高固含量漿料制備過程中,粉體團聚、沉降分層與氣泡殘留是常見的三大難題,本案例以高校科研院所的實際制漿場景為參考,實測驗證行星式真空脫泡攪拌方案的改善效果。
陶瓷粉體(氧化鋁、氧化鋯、鈦酸鋇等)密度高、粒徑細,比表面積大,在漿料中容易團聚并快速沉降;同時高固含量漿料粘度大,常規(guī)攪拌難以將粉體充分分散,氣泡也難以排出。粉體狀態(tài)直接影響漿料流變性與成型坯體質量,攪拌脫泡環(huán)節(jié)因此成為陶瓷漿料制備的關鍵工序。
粉體團聚:分散不充分,團聚體帶入成型環(huán)節(jié),形成坯體缺陷;
沉降分層:高密度粉體在存放與澆注過程中沉降,造成成分不均;
氣泡殘留:攪拌裹入的空氣未除盡,燒結后留下空洞。
采用行星式公轉自轉離心攪拌配合真空脫泡,三種作用協同處理漿料:
公轉離心力:高密度粉體在離心場中強制懸浮,抑制沉降分層;
自轉剪切力:高速剪切拆解粉體團聚體,實現均勻分散;
真空環(huán)境:低壓下氣泡膨脹上浮并破裂,氣體被持續(xù)抽離。
攪拌與脫泡在同一容器內一次完成,漿料不經轉移即可直接使用,減少二次污染機會。
| 漿料類型 | 典型應用 | 工藝要求 |
|---|---|---|
| 氧化物陶瓷漿料(氧化鋁、氧化鋯等) | 結構陶瓷、功能涂層 | 高固含量下分散均勻,脫泡充分,防止沉降 |
| 非氧化物陶瓷漿料(氮化硅、碳化硅等) | 耐磨部件、高溫結構件 | 避免引入雜質,攪拌過程穩(wěn)定可控 |
| 陶瓷基復合材料漿料 | 陶瓷基復合材料制備 | 多組分均勻混合,批次間一致 |
均勻分散
離心剪切協同作用,拆解團聚體,漿料細膩穩(wěn)定。
完全脫泡
真空環(huán)境破除氣泡,降低燒結空洞風險。
可重復性
轉速、時間、真空度數字化設定,批次間結果一致。
無交叉污染
一次性容器免清洗,不同配方間不產生交叉污染。
面向高校科研院所的實驗場景,思邁達真空脫泡攪拌機支持參數數字化配方存儲:常用漿料配方的轉速、時間、真空度等參數可保存調用,一鍵復現相同工藝條件;一次性容器配合使用,多個課題組可并行實驗而互不干擾,實驗數據可追溯,便于研究結果的對比與發(fā)表。

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